中国北京,2021年11月15日——全球领先的企业软件创新者VMware (NYSE: VMW)今天宣布任命原欣女士(Bessie Yuan)担任VMware全球副总裁、大中华区总裁,立即生效。原欣将全权负责VMware中国大陆及香港特别行政区、澳门特别行政区和台湾地区的业务推广。

原欣女士是中国本土成长起来的优秀IT领导者,在IT行业拥有超过20年的丰富从业经验,曾服务于甲骨文、海波龙等软件公司,历任技术总监、销售总监、事业部总经理等职。此外,她还主导过很多行业企业的数字化转型项目以及各类IT项目,在云服务领域拥有深厚的实践经验。
加入VMware 前,原欣在微软中国企业商用事业部担任总经理,深谙云计算技术的发展趋势,同时对本土云计算市场拥有深刻的了解和洞察,带领该事业部屡创佳绩。同期,凭借优秀的领导力,原欣先后在2019年和2020年分别入选福布斯“中国科技女性榜”和《财富》2020年中国最具影响力的商界女性(未来榜),是极具代表性的科技女性。
VMware全球高级副总裁、亚太及日本地区总经理Duncan Hewett表示:“原欣在云计算和IT领域拥有丰富的行业经验和深厚的专业知识,并在过往的工作中取得了出色的成绩。我很高兴她成为VMware大中华区的领导者,并支持更多的客户和合作伙伴将多云作为其业务的制胜战略。我们致力于帮助大中华区每个客户加速数字化转型,并更快地创新。”
谈及自己的新职务,原欣表示:“VMware是一家始终保持创新力的科技企业,在虚拟化、云计算,特别是多云及应用领域,都有着前瞻性的技术洞察和领先的解决方案。我很高兴加入VMware大家庭,也期待带领团队加速大中华区业务的进一步发展,为更多企业的数字化转型进程注入一股创新动力。”
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在干法刻蚀中,由于与气体分子的碰撞和其他随机热效应,加速离子的轨迹是不均匀且不垂直的(图1)。这会对刻蚀结果有所影响,因为晶圆上任何一点的刻蚀速率将根据大体积腔室可见的立体角和该角度范围内的离子通量而变化。这些不均匀且特征相关的刻蚀速率使半导体工艺设计过程中刻蚀配方的研发愈发复杂。在本文中,我们将论述如何通过在SEMulator3D中使用可视性刻蚀建模来弥补干法刻蚀这一方面的不足。
2021-11-15 12:46近日,全球领先的数字化整合增值服务商——柯尼卡美能达发布了《柯尼卡美能达中国区企业社会责任报告 2020-2021》(以下简称“报告”)。该报告立足全球宏观发展趋势,分为柯尼卡美能达CSR经营课题、柯尼卡美能达环境经营课题、柯尼卡美能达中国区柯公益及外部认可四大版块,其中涵盖了柯尼卡美能达高层寄语、集团中长期经营愿景诠释、三大绿色活动具体举措与成效以及中国区具有创新特色的“柯公益”活动介绍,充分展现了柯尼卡美能达在企业社会责任领域所做出的积极表率。
2021-11-15 13:00Copyright 2000-2015 CCIDnet.All rights reserved.
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