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电压功耗大幅下降 Intel披露新晶体管(图)

    英特尔最近披露了一些关于P-channel晶体管的细节,它是建立在硅基础之上的化合物半导体。
发布时间:2009-04-07 08:52        来源:        作者:转载
    英特尔最近披露了一些关于P-channel晶体管的细节,它是建立在硅基础之上的化合物半导体。

  正如我们所知,在元素周期表中,硅元素是位于IVA族的,那么在IIIA族元素硼、铝、镓、铟、铊和VA族元素氮、磷、砷、锑、铋组成的化合物就是通常所说的III-V半导体,而P-channel晶体管正这样的一种半导体。研究报告显示,它具有目前最高的性能。


Boron-nitrIDE(硼-氮)III-V半导体模型

  一年前,英特尔描述了同样属于III-V半导体的N-channel晶体管,也是建立于硅基础之上的,当两者复合应用之后,可以用来制造未来的微处理器,比起现在的晶体管技术,它将具有更低的电压,大约只有一半,而且功耗更是只有现在的1/10。

  英特尔并未谈及更多细节,显然,我们是非常希望新的晶体管能早日应用到CPU制造中。


(责任编辑:程龙)

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